纳米压印的工作原理，他真的可以替代EUV光刻机吗？一个视频为你解答 #科普知識 #科普

沒有EUV光刻機也可以製造5納米芯片 近期佳能推出了一個納米壓印設備 可以替代EUV光刻機進行芯片製造 它是怎麼實現的呢? 衆所周知 芯片內部極其複雜 一塊只加蓋大小的手機芯片 內部包含超過100億個晶體管 這些晶體管能夠製造出來 都離不開光刻機 我們先看看傳統的EUV光刻機是如何製造芯片的 芯片製造都離不開晶圓 在光刻之前 需要在晶圓表面塗上一層光刻膠 一切準備就緒後 就能開始光刻了 EUV光刻機最重要的就是光 這是一種極紫外光 在自然界是完全不存在的 必須通過EUV光刻機 用激光烘機金屬CD來產生 獲取到極紫外光後 還需要經過多層透鏡的反射 然後光線來到光演模板 演模板上雕刻的有集成電路 當光線通過演模板時 會通過光學鏡片進行聚焦 然後就能將演模板的電路 雕刻到晶圓的光刻膠上 那蠟米壓印技術又有什麼不同呢 跟EUV光刻機一樣 蠟米壓印也需要在晶圓上 塗上一層光刻膠 然後將晶圓放入相應的位置 接下來就是壓印 壓印跟我國古代的雕板印刷術類似 首先準備一個刻有電路圖的模板 然後將模板用力按壓到 塗有晶圓的光刻膠上 這樣模板上的電路圖 就像蓋印章一樣蓋到光刻膠上了 但是現代半導體芯片 都是由無數層堆疊電路組合而成的 這就需要極高的對齊精度 佳能開發的對齊技術 能通過測量精度小於一蠟米的位置 來糾正對齊偏差 電路圖印到晶圓的光刻膠上後 怎麼將模板分離出來呢 這就需要用到紫外光 紫外光照射到晶圓上後 會發生聚合反應 使得光刻膠固化 接着就能將演模板移除了 但是想要移除演模板 而不破壞電路是非常困難的 稍有不慎就會損耗電路 所以技術難度極高 蠟米壓印只是替代EUV光刻的步驟 其他步驟像刻石、離子注入、 薄膜成積等工藝還是一樣進行的 也就是說蠟米壓印 與這些工藝是完全兼容的 蠟米壓印技術比較擅長製造固態硬盤的 3D閃存振力芯片 以及計算機內存的DRAM芯片 但最終會過渡到對CPU等邏輯芯片的製造 在當下芯片行業面臨極大困難的情況下 蠟米壓印也成爲突破芯片限制的不錯選擇