【全540集】這絕對是講的最全的半導體工藝教程，從入門的半導體工藝講解到進階的清洗工藝，讓你少走99%的彎路！這還學不會，我退出機械圈！ P27 - 第二十六講——本台設備清洗工藝講解

大家好 我是天真教育 周晃老師 本節目的話 我們來講一下 我們本臺設備 它的一個清洗工藝 那麼我們這個設備的話 其實它是用的溼式清洗 而且的話 它是用的二流體清洗 二流體清洗 那麼什麼叫二流體清洗 它裏面它主要是有兩種流體 對吧 那麼我們一般來說的話 氣體 其實它也算是流體 那麼這裏的話 我們的清洗雜質 是去離子水 同學們 是去離子水 那麼去離子水的話 其實它也是純水 純水 它裏面的話 就是說 它沒有其他的一些金屬離子 它沒有金屬離子 那麼它採用的是 通過照聲波和氮氣霧化 那麼從而把液體 把它噴灑在機能表面 從而來實現一個清洗的 那麼這裏的話 也是有視頻 可以給大家來看一下 OK 那麼可以看到 這裏的話 這裏噴灑的 就是我們霧化的清洗液 這裏噴灑的 就是我們霧化的清洗液 然後下面的話 是一個轉檯 那麼這個轉檯的話 它帶動我們機元來旋轉 從而讓它的一個清洗 更加的一個均勻 對吧 好 我們繼續來看一下 OK 那麼這就是我們的二流體清洗 它的一個形式 那麼這裏面需要注意的是 這裏我們是用氮氣 來霧化它 氮氣 那麼爲什麼用氮氣 因爲氮氣的話 其實它在常溫下 是屬於一種惰性氣體 它不輕易 與其他物質發生反應 所以說這裏我們用氮氣 用氮氣 那麼可能同學們疑惑 什麼叫照聲波 其實照聲波和超聲波 它們差不多 只不過照聲波的話 它照聲波清洗劑 它清洗 它不僅保存了超聲波清洗的優點 而且還克服它的不足 那麼它的清洗機裏的話 是由高頻的850赫茲的振動 並結合化學清洗劑的化學反應 對規遍進行清洗 當然的話 這裏我們是用的純水 用的純水 那麼在清洗的時候的話 它由化能器發出波長爲一個 μ的波長