【半導體精講】這絕對是講的最全最細的半導體教程，從0到1帶你徹底瞭解芯片半導體工藝！包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP等等全工藝流程！ P24 - 第23講—清洗工藝的重要性

大家好 我是清晨教育 周浩老師 本節課的話是我們半導體清洗設備及工藝專學的第一節課 首先來給同學們講一下清洗工藝或者說這個工序 在我們半導體裏面它的一個重要性 清洗工具的話 它基本上是佔整個半導體晶圓製造工序的20%到30%的一個工作量 那麼像在集成電路芯片製造的過程中 微小顆粒灰塵和微量雜質的存在是高良率和高可靠性的主要障礙 那麼集成電路芯片製造生產線上的無塵室 顧名思義就是一個非常潔淨的空間 它旨在抑制塵埃中有機和無機雜質的引入和產生 在晶圓儲存搬運處理和加工的過程當中 我們不可能100%的避免微量的污染 所以說基本上每一道半導體的一個工序過後的話 它基本上它都要清洗 爲什麼 因爲它在搬運的過程當中 它是可能會被污染的 對不對 所以說清洗工藝的話 它的作用是在下一道晶圓加工工藝之前的話 從晶圓上去除這些因不可避免的因素而附着在晶圓上的塵埃 以潔淨的狀態送至下一道工序 那麼這就是我們清洗工藝 對於我們晶圓製造的一個重要性 對不對 好吧 那麼本期的話主要是來講解我們半導體清洗工藝它的一個重要性 那麼我們下期的話就來講一下我們清洗工藝的類型 好吧 那麼同學們再見