【半導體】目前最全最細的半導體工藝全套教程。從頭到尾帶你徹底瞭解芯片半導體工藝！手把手教學，讓你少走99%彎路！ P10 - 第十講：光刻

大家好我是青春教育卓華老師 那麼在上節課的話 我們是講到了這個塗膠烘乾 那麼塗膠烘乾之後的話 我們這一個硅片的話 它就要進行光刻了 那麼光刻的話 也是我國被卡脖子的一個工藝 那麼我們來看一下這個光刻 它到底是什麼樣子的 那麼我們一起來看一下這個視頻 接下來進入光刻 嗯現在這個視頻上面看到的光刻的話 其實它是ASML的這個極紫外的這個EUV光刻機啊 中文字幕 由 Amara. org 社群 我們需要把光掩膜上的電路縮小到更微觀的尺寸上 提供 在光的照射下 光刻膠上的化學物質就開始產生化學反應了 有的光刻膠在見光以後會變成可溶解的狀態 它就很容易在接下來的環節中被沖洗掉 這種膠叫做正膠 另外一種光刻膠則會在見光之後變得更加堅固 所以不見光的地方更容易沖洗掉 這種膠叫做負膠 現在的工藝，我們一般使用正膠 光刻是芯片製造裏技術含量最高的一個環節 涉及到非常多的技術問題 這就是光刻的一個大概的原理 它就是利用光和光刻膠來發生一個化學反應 從而來生成一定的電路圖案 那麼這裏比較複雜的就是這裏的光 我們應該怎麼來發生 因爲光這個東西它像一個光子 像一個光子的話它沒有質量 而且它的體積是非常非常小的 所以說就比較難控制 好那麼光刻之後的話 那麼這個光刻膠啊 它就可以溶解啊 可以溶解 所以說下一步的話 那麼就是顯影了啊 顯影 好吧 那麼本節課的內容啊 到這裏就結束了啊 同學們再見