半導體TSV工藝流程介紹

工业奇迹档案
7粉絲
1 次觀看·2026年8月19日
AI 生成·可能包含錯誤
視頻概述
AI 生成本视频详细介绍了半导体TSV(硅通孔)工艺流程及其核心优势。TSV通过在芯片中创建垂直通道实现多层堆叠,旨在提升传输速度并缩小体积。尽管该技术在性能上具有突破性,但目前受限于高昂的成本,尚未实现大规模商业应用。
意圖看懂半導體TSV工藝流程
看完終於知道爲什麼TSV技術被稱爲芯片封裝領域的王炸
TSV全稱通過歸通孔
是一種將兩個不同芯片或同一芯片的多個區域堆疊在一起的技術
其優勢在於可以實現多層堆疊
體積小、高級程度以及高速傳輸
具體到工藝上
首先需要製備好底層晶圓和底層晶圓
然後在底層晶圓的指定位置進行凹槽刻石
在硅片內部形成垂直通道
並對底部的接觸金屬化結構進行轉移
接下來就到了最複雜的環節
倒裝焊接
將兩塊晶圓對接並用高溫高壓的方式進行連接
最後還需要經過鍵盒、切割、研磨等步驟
才能得到最終的產品
雖然TSV已經被證明是可行的
但因爲成本過高
目前還沒有大規模應用
